Grafik

Mark Tobey, Strukturen

dichte Komposition aus Strichen und kleineren Flächen, Farbradierung auf Velin, um 1970, unter der Darstellung in Blei rechts signiert "Tobey" und links nummeriert "33/55", in der unteren linken Blattecke Prägestempel "Edition de Beauclair Frankfurt am Main", kräftiger Druck, Darstellungsmaße ca. 23,7 x 14,5 cm, Blattmaße ca. 51 x 34 cm. Künstlerinfo: US-amerikanischer Maler und Grafiker (1890 Centerville bis 1976 Basel), 1906 Umzug in die Nähe von Chicago, 1911 Umzug nach New York und hier unter anderem als Zeichner für die Vogue tätig, ab 1918 Anhänger der Bahai-Religion, 1922 Umzug nach Seattle und hier bis 1925 als Lehrer am Cornish College of the Arts tätig, 1925–27 Parisaufenthalt, 1930–38 Dozent an der Darting Hall School, 1934 Reise nach China und Japan, 1939 Rückkehr nach Seattle, 1944 Personalausstellung in der Willard Gallery/New York, 1958 Auszeichnung auf der Biennale in Venedig, Teilnahme an der documenta II und III, ab 1960 lebte der Künstler in Basel, gilt als Wegbereiter des abstrakten Expressionismus, Werke in zahlreichen Sammlungen und Museen, Quelle: Vollmer, Benezit, Wikipedia und Internet.